設備原理(lǐ)

1、利用(yòng)特(tè)制的高(gāo)能(néng)UV紫外(wài)線(xiàn)光(guāng)束(shù)照射惡臭气(qì)體(tǐ)，裂解(jiě)惡臭气(qì)體(tǐ)如(rú)：氨、三(sān)甲胺、硫化(huà)氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二(èr)甲二(èr)硫、二(èr)硫化(huà)碳和(hé)苯乙烯，硫化(huà)物(wù)H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二(èr)甲苯的分(fēn)子鍵。 

2、利用(yòng)高(gāo)臭氧分(fēn)解(jiě)空(kōng)气(qì)中(zhōng)的氧分(fēn)子産生(shēng)遊離氧，即活性(xìng)氧，因(yīn)遊離氧所(suǒ)攜正負电子不(bù)平衡所(suǒ)以(yǐ)需與(yǔ)氧分(fēn)子結合，進(jìn)而(ér)産生(shēng)臭氧，使呈遊離狀态的污染物(wù)分(fēn)子與(yǔ)臭氧氧化(huà)結合成(chéng)小分(fēn)子无害或(huò)低(dī)害的化(huà)合物(wù)。如(rú)CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性(xìng)氧)O+O2→O3(臭氧)。 

3、利用(yòng)特(tè)制的催化(huà)剂進(jìn)行氧化(huà)還(huán)原反(fǎn)應(yìng)；運用(yòng)高(gāo)能(néng)UV紫外(wài)線(xiàn)光(guāng)束(shù)、臭氧及(jí)催化(huà)剂对(duì)惡臭气(qì)體(tǐ)進(jìn)行協同(tóng)分(fēn)解(jiě)氧化(huà)反(fǎn)應(yìng)，使惡臭气(qì)體(tǐ)物(wù)質(zhì)其(qí)降解(jiě)轉(zhuǎn)化(huà)成(chéng)低(dī)分(fēn)子化(huà)合物(wù)、水(shuǐ)和(hé)二(èr)氧化(huà)碳，徹底达(dá)到(dào)脫臭及(jí)殺滅细(xì)菌的目的。 

設備特(tè)點(diǎn)

1、 高(gāo)效除惡臭：能(néng)高(gāo)效去(qù)除揮發(fà)性(xìng)有(yǒu)機(jī)物(wù)（VOC）及(jí)各(gè)種(zhǒng)惡臭味，脫臭效率比較高(gāo)可(kě)达(dá)99%以(yǐ)上(shàng)。 

2、无需添加任何物(wù)質(zhì)：只(zhī)需要設置相應(yìng)的排風(fēng)管(guǎn)道(dào)和(hé)排風(fēng)動(dòng)力。 

3、适應(yìng)性(xìng)強(qiáng)：可(kě)适應(yìng)高(gāo)濃度(dù)，大(dà)气(qì)量(liàng)，可(kě)每天(tiān)24小时(shí)連(lián)續工作，運行穩定(dìng)可(kě)靠。 

4、運行成(chéng)本(běn)低(dī)：本(běn)設備无任何機(jī)械動(dòng)作，无噪音(yīn)，无需專人(rén)管(guǎn)理(lǐ)和(hé)日(rì)常維護。 

5、无需預處(chù)理(lǐ)：工作环(huán)境温(wēn)度(dù)在(zài)攝氏-30℃～95℃之(zhī)間(jiān)，湿(shī)度(dù)在(zài)30%～98%、PH值在(zài)3-13之(zhī)間(jiān)均可(kě)正常工作。 

6、設備占地(dì)面积小，自(zì)重(zhòng)輕(qīng)：處(chù)理(lǐ)10000m3/h風(fēng)量(liàng)設備占地(dì)面积<1平方(fāng)米(mǐ)。 

7、優質(zhì)進(jìn)口(kǒu)材料制造：防火(huǒ)、防爆、防腐蚀性(xìng)能(néng)高(gāo)，設備性(xìng)能(néng)安(ān)全(quán)穩定(dìng)。 

使用(yòng)範圍

惡臭气(qì)體(tǐ)（工业廢气(qì)）UV光(guāng)氧淨化(huà)設備适用(yòng)範圍：煉油(yóu)廠(chǎng)、橡胶(jiāo)廠(chǎng)、化(huà)工廠(chǎng)、塗料廠(chǎng)、家(jiā)具廠(chǎng)、制藥廠(chǎng)、污水(shuǐ)處(chù)理(lǐ)廠(chǎng)、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭气(qì)體(tǐ)的脫臭淨化(huà)處(chù)理(lǐ)。